AMD与台积电采用“黑钻石”提高芯片性能
来源:PConline 作者: 时间:2004-02-10 19:04
(华强电子世界网讯) AMD、东芝和台积电即将采用一项由芯片制造商Applied Materials掌握的先进技术,该技术将大幅提高芯片性能。
据华尔街周刊报道,Applied Materials的“Black Diamond”(“黑钻石)技术使用特殊的化学薄膜芯片将芯片内部的导线绝缘。AMD和其他大公司都争相采用这一技术,而Intel的类似技术则由荷兰的芯片装配商ASM提供。
ATi也将采用“Black Diamond”技术,尽管台积电也为nVidia代工一部分芯片,但该技术却一直被nVidia拒之门外。
台积电将会在未来的生产中全面采用low-k工艺。Low-k(低介电常数)绝缘体可以避免导线之间的信号窜绕,提高芯片性能并降低功耗。
(编辑 甘心)
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