2004年IC设计抬头 130纳米仍是主流

来源:中国电子元器件网 作者: 时间:2004-01-13 17:46

     (华强电子世界网讯) RBC Capital Markets最新发布的研究称,2004年设计活动有可能抬头,与此对应的是对EDA工具的需求将增长。该研究还发现,大多数芯片设计师2004年将保持在130纳米节点。
    
      研究调查了电子设计工程师和工程小组经理,其它回复还来自于CAD工具经理。消费电子和通信是最为活跃的领域。
    
      研究称,ASIC和FPGA设计师打算在2004年转向更高门数。几乎半数的ASIC和FPGA设计预计将为500万门或者更高。
    
      大约46%的被调查者目前正在从事少于200万门的设计,29%正在进行200到500万门的设计,14%为500万到1000万门设计。剩下的对象正铺开的设计至少为1000万门。
    
      然而,向90纳米转移的速度缓慢。只有4%的调查对象目前进行的是90纳米设计,但21%的人士认为他们的下一个设计将会是90纳米。
    
      研究人员预测,EDA行业2004年可望获得5%到10%的营收增长。尽管Synopsys和 Cadence仍然是调查对象的主要供应商,但用户也表示,希望能多用到其它供应商的工具。
    
      研究还发现,设计收敛、验证和信号完整性仍然是芯片设计师最关注的三大块。
    
    
    

(编辑 甘心)

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