AMD芯片技术获得新突破 晶体管性能提高一半

来源:新浪科技 作者: 时间:2003-09-19 18:18

     (华强电子世界网讯) 美国东部时间9月18日(北京时间9月19日)消息,AMD公司的最新款的三闸极式(triple-gate)晶体管诞生了。这款最新的三闸极式(triple-gate)晶体管采用了绝缘件(SOI)硅片和metal gate技术,使得性能有了突破性的提高。据悉,这款新芯片比同类型产品的性能高出50%。
    
      AMD称,这款最新三闸极式(triple-gate)晶体管融合了多种技术。这款芯片的极细的电路使用了绝缘件(SOI)硅片,硅片的三侧面为镍硅化合物的metal gate。由于结构的合理性,这款芯片具有更好的移 动特性。
    
      同时,AMD称,这个多闸的绝缘件(SOI)硅片提高了电路宽度的利用率。这样,就可以在同样的宽度上,降低了电流,并增强了整流能力。这样,芯片在总体功能上比以前的芯片明显要高出了许多。(明月编译)
    

(编辑 汪风)

    
    

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