IC设计年会：谁在关心半导体制造技术的进步？

IC设计年会：谁在关心半导体制造技术的进步？

     在10月29日刚刚结束的2008’北京微电子国际研讨会上，由SEMI举办的先进半导体技术研讨会（ＡＳＴＳ）上观众爆满，超过10名观众站着听完了几小时的演讲。10月28日举办的先进半导体制造工艺技术培训也有接近100人参与，一位清华大学的教授说：“我们是来扫盲的。”让人真切感受到了越是专家，越是谦虚。
    
     北京是中国的半导体设备研发与制造中心之一，也是研究所与高校最为集中的城市。这里有七星华创、北方微电子、中科信、中科院半导体所、微电子所以及清华、北大，他们希望了解半导体产业的信息、技术与发展趋势。与产业、与全球先进技术的脱节让他们珍视这一次能够与IBM、Applied Materials、KLA-Tencor、Novellus等全球知名半导体公司面对面交流的机会。45nm及未来半导体技术的趋势、刻蚀技术的最新发展、65nm工艺的新材料、最新的提高良率的检测技术，这些都是今年ASTS讨论的热点话题。
    
     中科院半导体所杨富华主任说，有时专家的一句话、一个观点可以胜过几个月的思考，特别是与世界级专家的接触，往往有豁然开朗的感觉。中国在半导体技术领域即要跟踪，也要有所创新，要作出一些有影响力的大项目，而与国际的沟通与交流是必须一步。
    
     本次培训的讲师在培训结束后即被邀请去某公司继续授课。研讨会后，与讲师的交流的大多是年轻的工程师与学生。北京，似乎这里拥有更浓郁的学习氛围，而年轻的工程师与学生将是我们产业的未来。