尔必达25nm制程4Gbit内存颗粒开发完成
来源:华强电子网 作者:—— 时间:2011-09-23 09:18
8月初,尔必达曾宣布采用25nm工艺制造的2Gbit内存颗粒正式开始出货。今日该公司正式发表公告称,采用25nm新工艺制造的4Gbit DDR3 SDRAM颗粒研发完成,芯片面积在同类产品(4Gbit DRAM颗粒)中属世界最小。
.jpg)
新的内存颗粒型号为EDJ4104BCBG/EDJ4108BCBG,位宽分别为4bit/8bit,尔必达称相比自家之前的30nm制程4Gbit DDR3内存颗粒,1枚晶圆可切割出的芯片数量增加了45%,极大降低了生产成本。同时运行、待机时的电流值分别降低了25-30%和30-50%,最高传输速度可达1866Mbps以上(即此颗粒制成的内存频率最高1866MHz),默认电压为1.5V,同时有低电压1.35V的版本。
尔必达表示新的内存颗粒将在今年12月份开始试产,预计也将在同月开始量产并批量出货。
下一篇:惠普拆分PC业务计划恐将流产
相关文章
- •关键节点落地! 美国芯片关税迈入“第二阶段”2026-04-15
- •中东局势升级:一场正在逼近的全球芯片供应链危机2026-03-24
- •突发!三星9万人准备罢工:全球芯片要变天了?2026-03-18
- •芯片价格全面失控:最高暴涨70%,这一轮半导体周期不一样了2026-03-18
- •2026最硬科技!原子级3D成像揭示芯片内部“鼠咬”缺陷,芯片研发从此不同2026-03-06
- •芯片战再升级!美政府采购禁令来袭,SIA强烈发声反对2026-03-05
- •阿里“造芯”走到关键一步?平头哥或冲击IPO2026-01-26
- •重磅消息!中国对日本进口芯片发起反倾销调查!2026-01-08
- •免费直播预告 | 从理论到实操,全面解析ADC/DAC芯片测试前沿方案!2025-06-17
- •摩尔斯微电子携手Gateworks,利用Wi-Fi HaLow革新工业连接2025-06-04






