三星和首尔大学开发出非晶玻璃衬底GaN LEDs
来源:高工LED综合报道 作者:--- 时间:2011-12-21 00:00
【高工LED综合报道】
近日,三星尖端技术研究所和首尔大学宣布开发出了第一个由非晶玻璃衬底制造的发光二极管。非晶玻璃衬底上的氮化镓发光二极管不仅制造成本更低,在大尺寸LED晶圆级封装方面可扩展性也更强,而且由于玻璃衬底的透明度,还可用于光电发射设备。
据该研究显示,控制五个生长阶段InGaN/GaN多量子阱的MOCVD生长关键在于明白在金字塔形的LED阵列里的发光层是一种薄膜钛预定向层,其与氮化镓六角形晶体结构类似。
继前定向层和最初的低温GaN层(LT- GaN)之后是一个洞图案的二氧化硅(SiO2)层,进一步明确了在使用外延过程中放射层生长阶段的成核点。经过聚合的金字塔结构和最终的铟锡氧化物(ITO)电极层,金字塔形的LED器件照明将发出范围在448-478纳米之间600 cd/m2的亮度。
下一篇:LED面临焦灼的时刻
相关文章
led
资讯排行榜
- 每日排行
- 每周排行
- 每月排行
- 中国“ST”IPO,披露了存储和MCU这些新变化!
- 艾迈斯欧司朗IR:6树立红外技术新标杆
- 安森美AI数据中心系统方案指南上线
- 罗姆与芯驰科技联合开发出车载SoC X9SP参考设计, 配备罗姆面向SoC的PMIC,助力智能座…
- 东芝推出智能电机控制驱动IC“SmartMCD”系列的第二款新品
- 罗姆的SiC MOSFET应用于丰田全新纯电车型“bZ5”
- 罗姆为英伟达800V HVDC架构提供高性能电源解决方案
- Wolfspeed 正以积极举措夯实财务基础,为规模化盈利增长铺路
- X-FAB为180纳米XH018工艺新增隔离等级,提升SPAD集成能力
- 工业电池充电器的PFC级拓扑对比:升压vs图腾柱
- 大联大友尚集团推出基于Leadtrend产品的100W PD3.0适配器方案
- 工业电池充电器的PFC级拓扑对比:升压vs图腾柱
- 东芝推出符合AEC-Q100标准的双通道车载标准数字隔离器
- 重磅新品 | 思特威推出50MP超高动态范围手机应用CMOS图像传感器
- 兆易创新推出500W单级光伏微逆方案,助力控制精度更上层楼
- X-FAB为180纳米XH018工艺新增隔离等级,提升SPAD集成能力
- 罗姆为英伟达800V HVDC架构提供高性能电源解决方案
- Wolfspeed 正以积极举措夯实财务基础,为规模化盈利增长铺路
- 中国“ST”IPO,披露了存储和MCU这些新变化!
- 艾迈斯欧司朗IR:6树立红外技术新标杆