三星首次引进EUV设备 7nm芯片2017年底量产

　　三星希望领先业界，成为首家引进极紫外光(EUV)量产设备的晶圆代工厂。EUV微影技术被三星视为是下一世代先进制程的关键，三星打的如意算盘是借由EUV微影技术领先，以超越台积电、英特尔等竞争对手。

　　三星团队今年初就营运策略展开诊断，原订于3月完成，但为求详细，因此又多花了一个月的时间，而其致胜结论是不断冲刺先进制程，以及客户多元化分散风险。

　　据ETnews、com报道，三星近期将从半导体设备大厂艾司摩尔(ASML)采购NXE3400机台，也就是量产型EUV微影设备，预计2017年第二或第三季装设完工后，于年底开始用于量产7纳米芯片，这将是三星首度在量产线上采用 EUV 设备。

　　报道指出，台积电目前还没有在晶圆量产线上引进EUV设备的计划，但三星认为只有 EUV 才能完美实现7纳米技术，并计划以此为卖点向客户推销。三星近期举办论坛，已经开始对客户宣传本项计划。

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