KLA-Tencor 宣佈推出新型光罩检测系统

KLA-Tencor 宣佈推出新型光罩检测系统

　　KLA-Tencor公司针对 10 奈米及以下的光罩技术推出了叁款先进的光罩检测系统，Teron 640、Teron SL655 和光罩决策中心 (RDC)。所有这叁套系统是实现目前和下一代光罩设计的关键，因此光罩和积体电路晶圆厂能够更高效地辨识微影中显着并严重损害良率的缺陷(defect)。

　　利用创新的双重影像技术，Teron 640 检测系统给光罩厂提供了必需的灵敏度，以对先进的光学光罩进行精準的品质检定。Teron SL655 检测系统採用全新的 STARlightGold? 技术，协助积体电路製造商评估进料光罩的品质，监测光罩恶化，并检测对良率至关重要的光罩缺陷。由 Teron 检测机台所呈现的全面性光罩品质测量是由光罩决策中心 (RDC) 支援的，RDC 是一套资料分析与管理系统，具备多种功能，支援缺陷的自动分类处理决策，缩短生产週期，并减少会影响良率的与光罩相关的光罩图案错误。

　　KLA-Tencor 的光罩产品事业部 (RAPID) 副总裁兼总经理熊亚霖博士称：「今天的复杂的成像技术，例如隔板辅助四层成像 (SAQP)，採用越来越复杂的光罩，这使得检定光罩品质并维持光罩状况以实现最佳晶圆图案成像至关重要。我们的团队已经研发出最先进的光罩检测与资料分析技术，将满足目前和下一代的光罩设计的需求。透过将 Teron 640 和 Teron SL655 产生的丰富资料与 RDC 的评估功能结合起来，光罩和积体电路晶圆厂能够更高效地辨识微影中显着的光罩缺陷，进而改善光罩品质控制，并获得更好的产品图案成像。」

　　Teron 640 建立在光罩业界领先的 Teron 光罩检测平台之上，透过採用193 奈米光照和双影像模式-结合了高解析度检测和基于空间影像(aerial image)曝印性(printability) 之缺陷识别-支援先进的光学光罩检测。此外，Teron 640 还加强了先进的晶粒对资料库 (die-to-database) 检测演算法，以进一步提升缺陷灵敏度，并提供新的更高产能选项，以缩短获取结果的时间。多套 Teron 640 光罩检测系统已经安装在晶圆代工厂和逻辑电路工厂中，用于高效能光罩的品质控制。

　　Teron SL655 的核心技术 STARlightGOLD 能够在光罩进料品质检查时从光罩产生黄金参考，然后使用此参考进行尔后光罩合格性的重验。这种独特的技术实现了全域光罩覆盖，并且创造最佳缺陷检测率，例如析出物增长或污染，藉此支援包括採用高度复杂的光学近接效应修正在内的各种光罩类型。Teron SL655 拥有业界领先的产能，可支援更快的生产週期所需检测更多数量的光罩，满足先进的多重曝影光罩技术的需要。此外，Teron SL655 与极紫外线 (EUV) 检测技术相容，能够与积体电路製造商及早合作，满足晶圆厂对 EUV 光罩的要求。在进料光罩品质控制和晶片生产过程中的光罩合格性重验方面，Teron SL655 系统正在接受积体电路製造商的评估。

　　RDC 是一套综合资料分析及储存平台，支援光罩厂和晶圆厂的 数种KLA-Tencor 光罩检测与量测平台。RDC 可以提供包括自动缺陷分类 (ADC) 在内的数种应用，ADC与检测机台可同时执行，而微影平面检视 (LPR) 则用于光罩检测机台所侦测缺陷的曝印性分析。这些应用可以使得缺陷识别自动化，从而改善生产週期，并减少关键性错误。RDC 已被多家代工厂和记忆体製造商採纳，用于光罩合格检验过程中的资料管理和分析。

　　Teron 640、Teron SL655 和 RDC 与 LMS IPRO6 光罩图案位置量测系统和 K-T Analyzer? 先进资料分析系统一起，形成了全面的光罩合格性检定解决方案，以支援先进的光罩和积体电路製造商。Teron 640、Teron SL655 和 RDC 也是 KLA-Tencor 的 5D图案成型控制解决方案的关键组成部分，它可以协助积体电路製造商透过对整个晶圆厂和光罩厂的製程监测与控制获得更好的图案成像的绩效。为了保持最尖端的光罩和积体电路製造所要求的高效能和高产能，Teron 650、Teron SL655 和 RDC 由 KLA-Tencor 的全球综合服务网路提供支援。关于更多资讯，请参阅 5D图案成型控制解决方案网页。

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