-
KLA-Tencor宣布推出针对光学和EUV 空白光罩的FlashScanTM产品线
KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*检测产品线。自从1978年公司推出第一台检测系统以来，KLA-Tencor一直是图案光罩检测的主要供应商，新的FlashScan产品线宣告公司进入专用空白光罩的检验市场。光罩
-
KLA-Tencor为先进积体电路元件技术推出全新量测系统
KLA-Tencor公司(纳斯达克股票代码：KLAC)今日针对次十奈米(sub-10nm)积体电路(IC)元件的开发和量产推出四款创新的量测系统：Archer?600叠对量测系统，WaferSight?PWG2图案化晶圆几何形状测量系统，Spe
-
KLA-Tencor 宣佈推出新型光罩检测系统
KLA-Tencor公司针对10奈米及以下的光罩技术推出了叁款先进的光罩检测系统，Teron640、TeronSL655和光罩决策中心(RDC)。所有这叁套系统是实现目前和下一代光罩设计的关键，因此光罩和积体电路晶圆厂能够更高效地辨识微影中显着
-
KLA-Tencor发布5D图案成型控制解决方案的关键系统
KLA-Tencor公司日前宣布推出WaferSightPWG已图案晶圆几何形状测量系统、LMSIPRO6光罩图案位置测量系统和K-TAnalyzer9.0先进数据分析系统。这三种新产品支持KLA-Tencor独特的5D图案成型控制解决方案，此
2014-08-29 09:15 -
KLA-Tencor四款新系统提供先进的缺陷检测与检查能力
在美国西部半导体设备暨材料展(SEMICONWest)上，KLA-Tencor公司宣布推出四款新的系统——2920系列、Puma9850、SurfscanSP5和eDR-7110——为16nm及以下的集成电路研发与生产提供更先进的缺陷检测与检查
2014-07-09 09:28 -
KLA-Tencor宣布推出新型Teron™ SL650光罩检测系统
近日，KLA-Tencor公司宣布推出Teron?SL650，该产品是专为集成电路晶圆厂提供的一种新型光罩质量控制解决方案，支持20nm及更小设计节点。TeronSL650采用193nm光源及多种STARlight?光学技术，提供必要的灵敏度和
2014-05-29 14:22 -
KLA-Tencor推出PROLITH(TM) X3.1 光刻模拟软件
今天，专为半导体和相关产业提供制程控制及成品率管理解决方案的全球领先供应商KLA-Tencor公司（纳斯达克股票代码：KLAC）推出了他们最新一代的PROLITH光刻模拟软件。PROLITHX3.1让处于前沿领先地位的芯片厂商、研发机构及设备制
2010-02-22 09:23