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应用材料公司新NMOS高性能晶体管创新外延技术
新的NMOS（N型金属氧化物半导体）外延沉积工艺对下一代移动处理器芯片内更快的晶体管至关重要应用材料公司在AppliedCenturaRPEpi系统设备上新开发了一套NMOS晶体管应用技术，继续保持其在外延技术方面十年来的领先地位。该应用技术的
2013-07-16 09:17
新的NMOS（N型金属氧化物半导体）外延沉积工艺对下一代移动处理器芯片内更快的晶体管至关重要应用材料公司在AppliedCenturaRPEpi系统设备上新开发了一套NMOS晶体管应用技术，继续保持其在外延技术方面十年来的领先地位。该应用技术的
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