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联电联手SuVolta开发28nm低功耗制程技术
联华电子(UMC)与新创公司SuVolta宣布联手开发28nm低功耗制程技术，瞄准行动应用。该制程将SuVolta的深度耗尽信道(DeeplyDepletedChannel；DDC)晶体管技术整合到联电的28奈米High-K/MetalGate
2013-08-21 09:15
联华电子(UMC)与新创公司SuVolta宣布联手开发28nm低功耗制程技术，瞄准行动应用。该制程将SuVolta的深度耗尽信道(DeeplyDepletedChannel；DDC)晶体管技术整合到联电的28奈米High-K/MetalGate
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