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安森美半导体推出180 nm工艺上经过认证的新IP模块
5月7日，安森美半导体宣布推出专有ONC18180纳米(nm)工艺技术上的经过认证的新的知识产权(IP)。这些新的经过认证的电路模块将帮助安森美半导体的晶圆代工厂(GDS2)接口客户把需要硅片重制(re-spin)的风险降至最低，因而帮助降低新
2014-05-08 09:26