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微影技术持续精进 促半导体工业飞跃性成长
早期半导体工业在光学微影技术(OpticalLithography)支持下,不仅可以持续改善集成电路的元件特性,单一元件的集积度大幅提升,不仅使制造成本压低,也让产品的性能持续提升,但光学微影技术毕竟有其使用限制,尤其在面对更微小的线路制程需求
2014-09-05 08:37
早期半导体工业在光学微影技术(OpticalLithography)支持下,不仅可以持续改善集成电路的元件特性,单一元件的集积度大幅提升,不仅使制造成本压低,也让产品的性能持续提升,但光学微影技术毕竟有其使用限制,尤其在面对更微小的线路制程需求
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