半导体及TFT新兴产业适用门槛提高

半导体及TFT新兴产业适用门槛提高

     (华强电子世界网讯） 据我国台湾《工商时报》报道，台湾“经济部”指示“工业局”全面反思新兴重要策略性产业，未来凡用水回收空间大的产业，用水回收率应纳入适用门槛，预计ＴＦＴ─ＬＣＤ（薄膜晶体管液晶显示器）等用水量较大产业，都将新增废水回收率须达70%以上的条件。另外现行半导体制程技术门槛也将提高。
    
     半导体制程技术将现行0．175微米以下提升到12吋晶圆厂0．11微米以下，才能纳入新兴产业享受五年免税及股东投资抵减优惠。 　
    
     在半导体制造部分，目前门坎属ＣＭＯＳ逻辑纯数字制程者制造能力达0．175微米以下，主要是针对晶圆代工厂，新的门坎计划调高为0．11微米以下，以12吋晶圆代工厂为主，预期未来新的12吋厂将可适用。 　
    
     目前台湾半导体制造主力在八吋晶圆厂制程技术0．18及0．25微米；另台积电、联电、力晶半导体及茂德等四家企业，各有一座12吋厂，试投产以0．15微米，现有制程技术为0．13微米，甚至已到0．11微米的能力水准。