中国LSI走向何方——中纬积体电路

来源:日经BP社 作者: 时间:2003-02-17 19:02

     采访对象∶中纬积体电路股份有限公司 冯明宪
    
     采访者∶日经BP社编辑委员室编辑委员 神保 进一
    
    

开发0.13μm技术

    
     自1997年参与建设CSMC-HJ(无锡华晶上华半导体有限公司)后,我们又于1999年与清华大学以125mm晶圆试制生产线建设项目的形式成立了清华大学微电子研究所。接着,2002年8月将台积电(TSMC)的Fab1迁至宁波设立了现在的公司。
    
     现在已经与TSMC就转让1μm及0.8μm技术达成了一致意见。这项协议是在美国911恐怖袭击事件一个月之后的2001年10月15日达成的,价格完全在我们可以接受的范围。146台生产设备和逾2万件的零部件已经运抵宁波的仓库。我们还向清华大学微电子学研究进行出资,将把在中国生产LSI的经验充分运用于本公司的生产当中。清华大学微电子学研究所拥有3~1μm的10多种生产工艺技术。第二阶段将以0.25μm及0.35μm技术为目标。日本生产线也是我们的引进对象之一。
    
(编辑 林帆)

    

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