芯原为华虹NEC的0.25微米CMOS工艺提供标准设计平台

芯原为华虹NEC的0.25微米CMOS工艺提供标准设计平台

     (华强电子世界网讯) 上海华虹NEC电子有限公司与芯原微电子(上海)有限公司日前正式签订合作协议，后者将为华虹NEC新近开发完成的0.25微米CMOS工艺提供标准设计平台。
    
     为更好满足客户的需求，最近，华虹NEC完成了对公司原有的NEC 0.25微米工艺棗UC2的改造，开发完成了面积更紧湊、时序性能更优越、更具有竞争力并与其他晶圆代工厂相兼容的0.25微米新CMOS工艺棗CL250G。
    
     根据协议，芯原的设计平台包括标准单元库(Standard Cell Library)，输入和输出单元库(I/O Cell Library)和存储器编译器包括有单口和双口静态随机存储器 (Single Port and Dual Port SRAM Compiler)，寄存器(One Port and Two Port Register File)和扩散可编程只读存储器(Diffusion ROM Compiler)。
    
     业内人士认为，此次协议的签署，将进一步加快华虹NEC的代工业务增长。
    
     华虹NEC是据称中国大陆第一条8英寸晶圆代工生产线，提供标准CMOS工艺及相应生产设备和通过ISO（9001和14000）验证的服务支持体系。华虹NEC为国内外客户提供代工业务，其产量将在2003年达到3.2万片，并达到0.18微米的工艺水准。
    
     芯原微电子(上海)有限公司总部位于上海，成立于2001年，该公司提供的半导体标准开发平台包括标准单元库、输入输出库和存储器编译器等。这些开发平台是为华虹NEC、中芯国际、宏力半导体、上海先进半导体等中国半导体芯片代工厂量身定制的，工艺技术覆盖0.18微米，0.25微米，0.35微米和0.6微米，并且通过了流片和主流EDA工具的验证。