CICS公布:第四季度全球晶圆厂设备利用率下降

来源:国际电子商情 作者: 时间:2003-02-28 17:55

     (华强电子世界网讯) 国际半导体产能统计组织(Semiconductor International Capacity Statistics)公布的一份报告显示,2002年第四季度生产CMOS电路的多数类型晶圆厂的设备利用率连续第二个季度下降。
    
     2002年第三季度所有MOS工厂的平均设备利用率自第二季度的87.3%降至86.5%,第四季度则降至81.9%。
    
     但采用比0.2微米更精细工艺的设备利用率基本持平于90%左右,2002年各季度的设备利用率分别为90.6%、93.7%、93.0%和89.6%。
    
     尽管设备利用率趋于下降,预示制造商面临降价压力,但可能只要需求略有增长,就可以将设备利用率推高至100%,届时价格将会上涨。
    

(编辑 林帆)

    
    

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