欧洲和日本投巨资豪赌超紫外光刻技术

     (华强电子世界网讯) 欧洲和日本政府不惜投入巨资，开发超紫外光刻(EUV)系统。参加国际EUV光刻论坛的代表宣称，众多欧盟成员国将在今后几年内向与EUV相关的项目斥资1亿美元。
    
     英特尔公司的Chuck Gwyn表示，日本以佳能公司和尼康公司为代表的步进器竞争对手，携手激光器制造商 Komatsu、Ushio 和Gigaphoton等公司分别组成EUV项目组，也加入了挑战。实际上，在EUV制造开始现出黎明的曙光时，由丹麦的光刻设备供应商ASML领头的欧洲已处在领先的位置上。但日本也在迅速迎头赶上。Chuck Gwyn曾经是EUV LLC的项目经理。佳能和尼康预计将在2005年底推出试用版的EUV设备，与ASML的时间表大致相同。
    
     虽然国防先进研究项目组和国家标准技术研究院对此提供了一定的支持，但美国联邦在EUV的资金投入上相对来说要小一些。纽约州承诺在5年内投入2.8亿美元，劝说国际Sematech组织将EUV掩模基底和照相涂层中心设在Albany。Sematech在十几家芯片制造商成员公司支持下，将向Albany中心注资4,000万美元。