精简高效能电源供应凸显 高压MOS攻防战开打
来源:新电子 作者: 时间:2009-04-29 23:05
高压MOSFET在节能意识高涨的市场环境下重要性日增,而以超接面技术制造的高压MOSFET,由于可较标准平面式MOSFET在相同单位面积内,实现更小的导通电阻,因而成为功率半导体组件业者竞相布局的重点。
电源制造协会电源技术蓝图委员会联合主席暨Transphorm营销副总裁Carl Blake表示,市场对节能价值的重视,为电源供应业者带来新的挑战。
随着以超接面(Super Junction)技术制造的高压金属氧化物半导体场效晶体管(MOSFET)重要性与日俱增,相关功率半导体供货商间的竞争也日趋激烈,除不断推出更低导通电阻(RDS(0N))与切换损失的新一代方案外,日前更引发英飞凌(Infineon)与快捷(Fairchild)半导体专利诉讼纷争,让高压MOSFET市场弥漫一股浓厚火药味。
此外,在今年2月于美国华盛顿特区举办的应用电力电子研讨会暨展览会(APEC)上,如何提高能源转换效率,进一步精简电源供应设计、降低整体物料清单(BOM)成本,持续成为市场关注焦点。
电源制造协会(Power Sources Manufacturers Association, PSMA)电源技术蓝图委员会联合主席暨Transphorm营销副总裁Carl Blake在专题演讲中指出,在全球经济遭逢百年难得一见的挑战同时,市场对节能的需求也达到前所未有的高点,并对电源供应市场带来极大冲击。他同时预估,至2013年,交流对直流前端(AC-DC Front End)电源方案的功率密度将由2008年每立方英吋8~18瓦,增加至每立方英吋13~38瓦;转换效率则由88~94%,提升至92~96%;而每瓦的成本方面,则受到全球能源环保意识抬头,节能价值备受重视,虽首度呈现上扬局面,但至2013年仍将下滑至0.08~0.125美元(表1、图1)。
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ST工业暨多重市场功率MOSFET部门技术营销经理Marc Laudani表示,超接面MOSFET在电源供应设计上的重要性与日俱增。
为达成更高能源转换效率的使命,功率半导体组件设计业者无不卯足全力投入新产品与技术研发,其中,采用超接面技术所制造的高压MOSFET更是未来最被看好的明星技术。
事实上,早在1999年,英飞凌即已率先推出首款采用超接面技术的商用高压MOSFET--CoolMOS;两年后,意法半导体(STMicroelectronics)也加入战局并推出第一代MDmesh功率MOSFET,同样也以超接面技术开发而成。随后,快捷与东芝(Toshiba)也分别于2004及2005年,先后发布名为SuperFET与DTMOS的首款超接面MOSFET方案。
尽管超接面MOSFET已问世达10年之久,然而由于早年产品价格过高且市场需求未显,并未获得大量采用;如今,随着节能与精简电源供应设计的需求高涨,让超接面MOSFET产品行情看俏,市场渗透率也逐年增加。
意法半导体工业暨多重市场功率MOSFET部门技术营销经理Marc Laudani表示,MOSFET在电源供应设计上举足轻重,尤其在电源转换效率欲由80%提升至90%以上时,更扮演极为关键的角色,左右着整体设计的效能良窳及电路板空间大小。而超接面MOSFET可较传统平面式(Planar)MOSFET在相同尺寸的裸晶(Die)上实现更低的导通电阻与切换损失,进而提升每单位面积的功率密度,在转换效率斤斤计较的市场环境中,更加突显其技术优势。目前,超接面MOSFET约占整体高压MOSFET市场20~25%的比重,预估在相关业者全力发展下,市场接受度将节节攀升。
英飞凌工业与多元电子事业处资深主任工程师吴荣辉强调,原材料掌握度、裸晶设计与封装技术是高压MOSFET制造的成功关键。
意法半导体APM大中华区功率MOSFET与整流器技术营销经理Gianfranco Calabro进一步指出,相较于现今市场上采用多颗分布式功率组件所组成的解决方案,电源供应系统开发人员仅须使用一颗超接面MOSFET即可达到相同转换效率,不仅BOM成本大幅降低,产品设计也可更为精简。虽然标准的平面式MOSFET方案仍将在小瓦数应用市场取得发展空间,但长期而言,超接面MOSFET的发展将势不可当。
制程/封装技术成决胜关键
一般而言,MOSFET的额定电压与导通电阻成正比,亦即,额定电压愈高,造成裸晶尺寸愈大,导通电阻也会随之增加。因此,为了在相同或更小裸晶尺寸下,达到更高的电压耐受能力,同时降低导通电阻,即成为设计上最大的挑战。
英飞凌工业与多元电子事业处资深主任工程师吴荣辉分析,超接面MOSFET技术虽较平面式MOSFET拥有更好的导通损失、切换速度与杂散电容表现,但实作上门坎甚高,尤其要在制程上增加P型掺杂(Doping)更是相当棘手(图2),一方面要掌握原材料的物理特性,另一方面须具备裸晶层级的制程设计能力,同时封装与散热技术亦不可或缺,因而成为各家功率半导体制造商在市场上胜出的重要关键。
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然而,这看似简单的制程原理,实际上却隐藏着不少发展陷阱。英飞凌工业与多元电子事业处资深营销经理陈清源透露,超接面技术其实已发展多年,许多技术都已被市场先驱者掌握,专利回避空间愈来愈小,即便采用其它技术设计,效能上也未必理想。
也因此,台面上虽然主要功率半导体业者均已开发出超接面MOSFET方案,但私底下彼此间的专利角力早已处于紧张状态,并随着超接面MOSFET市场的增温一触即发。
日前英飞凌与快捷半导体间的专利诉讼即是一例。据2008年11月25日英飞凌发布新闻稿指出,快捷半导体的SuperFET、SuperMOS及PowerTrench、UltraFET、UniFET、DrMOS、IGBT等其它功率晶体管产品侵犯英飞凌技术专利。
该公司副总裁暨工业及多重市场部门总经理Andreas Urschitz表示,在兴讼之前,快捷半导体原本正与英飞凌洽谈专利授权事宜,但显然的,在经过长期谈判后,双方仍无法透过正常商业管道达成合理的协议。他强调,英飞凌对于其智能财产的价值高度重视,因此当同业侵犯其硅智财时,该公司将会采取法律行动,积极保护硅智财权利与商业利益。
另一方面,快捷半导体也不甘示弱,3天后,同样发布消息,反控英飞凌侵权,并向缅因州与达拉瓦州地方法院提出告诉,指控英飞凌CoolMOS和OptiMOS产品,以及其它IGBT和CanPAK产品系列,侵犯快捷半导体所拥有的八项专利技术中的一项以上。
快捷半导体资深副总裁暨电源转换、工业和汽车方案部门总经理Justin Chiang疾言,对于这项专利之争该公司信心满满,并将据理力争,全力保护快捷半导体的智慧产权。
就在英飞凌与快捷半导体因官司诉讼忙得焦头烂额之际,正好给了意法半导体绝佳发展良机,除打破市场标准,推出崩溃电压(Breakdown Voltage)高达650伏特的超接面高压MOSFET方案外,亦紧锣密鼓投入更新材料技术--碳化硅(SiC)的研发,厚实未来产品竞争力(图3)。
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Laudani指出,目前市场上的高压MOSFET,多半仅能达到600伏特的崩溃电压,而意法半导体日前所推出的第五代MDmesh高压MOSFET则突破此一限制,为研发工程师提供了更多的安全裕度(Safety Margin),并可达到单位面积最小的导通电阻,相当适合如笔记型计算机的电源转换器、液晶显示器及电视机、灯光稳压器、电信设备、太阳能转换器(Inverter)及其它需要高压功率因子校正(PFC)的功率转换应用。特别是对环境温度可能低于摄氏零度以下的太阳能转换器而言,多出的50伏特崩溃电压,更在维持系统正常运作上带来极大帮助。
不仅如此,由于新一代MDmesh高压MOSFET的关断波形更加平滑,因而可降低电磁干扰(EMI),让闸极控制更加容易且滤波设计也更为简单。此外,Laudani也透露,意法半导体已着手进行SiC的研发,未来将可与超接合MOSFET产品互补,强化其功率半导体的产品组合。
由于高压MOSFET达到1,000伏特后,各项特性表现便面临发展瓶颈,因此相关业者已纷纷改用SiC原材料来制造MOSFET或是藉由发展SiC的萧特基二极管(Schottky Diode)来降低对更高压MOSFET的依赖。如英飞凌所发表的JFET技术即是以SiC原材料做成的高压MOSFET。
此外,英飞凌也于2月举行的应用电力电子研讨会上,发布第三代SiC萧特基二极管--thinQ!,在更高的切换频率与轻负载情况下,更能提升整体系统效率,有助于降低整体电源转换的系统成本。
相较于整体MOSFET近50亿美元的市场规模,高压MOSFET虽仅占13亿美元的比重,却仍是功率半导体业者不能忽视的重要战场,尤其在能源转换率要求日益严苛的发展趋势下,高压MOSFET的重要性更不在言下。吴荣辉分析,目前市场上对转换效率的要求已由重载扩大至轻载/无载,而高压MOSFET正是影响这两种模式转换效率的核心组件。