明导协同ST推动20nm晶片技术

明导协同ST推动20nm晶片技术

　    稍早前，明导国际（Mentor Graphics）宣布加入意法半导体（ST）一项名为Nano 2012 DeCADE的计划，并表示，将共同就先进制程的SoC开发展开广泛合作，推动晶片设计技术从32nm前进到20nm及更先进制程节点。

　　  DeCADE是一项为期三年的专案，旨在开发先进的SoC设计方案，范围涵盖了数位和类比设计。而针对这些复杂SoC开发所需的工具及方法学，明导国际Calibre设计解决方案行销总监Michael Buehler-Garcia表示，将与ST就撷取、电感、LFD、微影和P&R等技术方面扩大合作。

　　  随着晶片制程技术逐渐过渡到45nm,晶片本身的复杂度和日益庞大的规模，使得整个设计过程从一开始就面临着更多的不确定性，例如，随着晶片规模扩大而增加的设计规则，都为45nm及以下制程的晶片设计添加了更多风险。

　　  透过与拥有晶片设计及制造的IDM业者的合作，明导希望为45nm以下甚至到20nm制程世代的晶片设计建构一条更容易通往设计成功的道路。“与纯晶圆厂相比，ST作为合作夥伴更具优势，因为他们拥有大量的晶片开发和测试经验，”Buehler表示。

　　  针对这项专案，Mentor也在法国Crolles雇用了专属工作人员，以推动该计画的发展。