日亚化在美控告亿光专利侵权 二审再获胜诉

日亚化在美控告亿光专利侵权 二审再获胜诉

　　LED大厂日亚化（Nichia Corp.）与亿光电子之间的美国专利诉讼案有了新进展。继2016年美国东德州地方法院一审判决日亚化胜诉后，近日美国联邦巡回上诉法院作成二审判决，认定亿光及其美国子公司Everlight Americas Inc.侵害日亚化三件LED专利权，并否决亿光所提出的专利无效抗辩。

　　这起诉讼案始于2013年9月，日亚化向美国东德州地方法院起诉控告亿光及Everlight Americas Inc.，侵害日亚化所拥有之三件专利，包含美国专利US8,530,250号（“250号专利”）、US7,432,589号（“589号专利”）、US7,462,870号（“870号专利”）。地方法院于2016年1月25日作出一审判决，确认亿光侵害前述三件日亚化LED专利权，并驳回亿光对该三专利所提的专利无效抗辩，亿光认为该结果并非最终判决，因而持续上诉。

　　时隔一年多，美国联邦巡回上诉法院于2017年4月28日作成二审判决，将维持先前地方法院的一审判决结果，认定亿光侵害日亚化三件LED专利权，侵权之LED产品如下：

　　亿光在今（9）日傍晚也对上诉法院的二审判决作出回应，仅表示已于日前收到上诉法院针对禁制令不成立之判决，也对该判决表示肯定，除此之外并未对此案发布其他意见。