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联华与SuVolta联合开发28nm低功耗工艺
联华电子公司("UMC")与SuVolta公司,日前宣布联合开发28纳米工艺。该项工艺将SuVolta的DeeplyDepletedChannel?(DDC)晶体管技术集成到联华电子的28纳米High-K/MetalGate(HKMG)高效能移
2013-07-26 09:12
联华电子公司("UMC")与SuVolta公司,日前宣布联合开发28纳米工艺。该项工艺将SuVolta的DeeplyDepletedChannel?(DDC)晶体管技术集成到联华电子的28纳米High-K/MetalGate(HKMG)高效能移
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