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Mentor的CalibreLFD获得TSMC的20nm制造工艺认证
MentorGraphics公司日前宣布CalibreLFD（光刻友好设计）光刻检查工具已获得TSMC的20nmIC制造工艺认证。CalibreLFD可对热点进行识别，还可对设计工艺空间是否充足进行检查。光学临近校正法（OPC）在掩膜阶段无法解
2012-09-29 09:40