怒打英特尔脸:IBM推出7nm芯片
来源:雷锋网 作者:------ 时间:2015-07-10 09:39
据国外媒体报道,IBM宣布在芯片工艺上取得了一项重大突破,这家公司已经成功研制出了7nm芯片样品,这项技术最大的变革在于,其采用的是锗硅材料以及极紫外(EUV)光刻技术。
根据最新的消息,这项技术由IBM、Global Foundries、三星和纽约州立大学理工学院纳米工程系联手完成,一共投资了30亿美元。目前,这一技术还处于研究阶段,如果得以实现,未来晶体管的通断会更快,而且功耗也将随之降低,根据IBM官方的说法,采用新材料及技术可以给芯片带来50%的性能提升。
纽约州立大学纳米科学与工程学院的Michael Liehr(左)和IBM的Bala Haranand(右)检查新芯片的晶圆
IBM还表示,未来完全有可能研制出200亿颗晶体管的微处理器。这一消息确实很令人振奋,不过需要注意的是,IBM已经于日前将旗下芯片业务卖给Global Foundries,所以其相关技术都已授权给后者。
事实上,在14nm工艺之后,业界普遍认为半导体工艺已经逐渐停滞,与此同时大家也在质疑存活了50年的摩尔定律是不是已经过时了。
以英特尔为例,其早就宣称有能力达到7nm的高度。但是结果呢,其最近基带处理器接连出现跳票延迟推出,撇开7nm不说,其10nm在不久前已经宣告了无限期跳票,这对一直在工艺上领先的英特尔来说确实有些难堪。除了英特尔,三星和台积电两家厂商也在逼近10nm这一难关,现在还不能断言这是否是个死胡同,但14nm跨越到10nm确实是一个坎。
可以说,IBM通过全新的材料以及全新的技术已经率先取得了突破,我们还可以继续相信神奇的摩尔定律,更值得期待的是“蓝色巨人”何时实现7nm的商用。
关注电子行业精彩资讯,关注华强资讯官方微信,精华内容抢鲜读,还有机会获赠全年杂志
关注方法:添加好友→搜索“华强微电子”→关注
或微信“扫一扫”二维码
- •EUV 光刻机耗能巨大,3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力2022-08-26
- •美光CEO:台中厂今年导入EUV2022-05-26
- •韩国本土开发首款EUV光刻胶通过三星可靠性测试2021-12-21
- •荷兰巨头ASML将推出比EUV还先进的更新型光刻机2021-12-15
- •三星宣布量产14纳米EUV DDR5 DRAM2021-10-13
- •EUV供应链全线飘红?2021-10-09
- •摩尔定律再续10年?ASML新一代EUV开造!这家巨头抢先!2021-09-03
- •消息称台积电将启动EUV持续改善计划2021-07-21
- •SK海力士开始使用EUV大规模生产1anmDRAM2021-07-13
- •半导体四巨头扩大EUV产能建置,EUV设备及材料供应商直接受惠2021-03-24