ASML收购汉微科 加速三星与积电7纳米竞争
荷兰设备大厂艾司摩尔(ASML)并购股后汉微科,牵动台积电与三星的制程竞赛。设备业者认为,ASML并购汉微科之后,可能协助三星加快7纳米量产,使得台积电与三星的7纳米大战战火更烈。
业界观察,三星在10纳米制程失利之后,已宣布提前7纳米量产计划,率先在7纳米导入ASML量产的极紫外光微影制程(EUV)设备机台。三星规划,明年第2季或第3季EUV机台装设完工之后,明年底就会用于量产7纳米芯片。
台积电在7纳米制程尚未导入EUV设备。由于ASML并购汉微科之后,在先进制程机台能量大幅提升,业界密切关注ASML是否会协助三星加快7纳米布局,以及台积电后续因应动作。
台积电表示,对ASML并购汉微科持肯定态度,预期以ASML雄厚财力,可以让汉微科有更大的后盾,支持在电子束检测更先进的研发。
对于三星提前在7纳米采用EUV微影制程,台积电表示,考量目前EUV设备还有很多技术瓶颈,公司才决定不在7纳米导入使用,将紧盯对手发展。台积电强调,若EUV设备在2018年更成熟,该公司也会采取应变对策,绝不会让对手取得先机。

帆宣信邦战略地位提升
艾司摩尔(ASML)宣布以新台币千亿元并购汉微科之后,将强化在台研发能量及采购比重,ASML在台四大夥伴帆宣、公准精密、信邦,以及大银等台湾业者,重要性同步拉升。
ASML很早就与台湾建立关系,1988年由汉民代理台湾业务,2007年进一步在台成立卓越创新中心,陆续将全球训练中心、二手设备翻修业务,以及子公司YieldStar量测系统生产线移到台湾,就近服务客户及支援全球。
ASML并把亚洲采购中心移到台湾,从台湾上百家供应商中,几经辅导评核等程序,选出帆宣、公准、信邦、大银等成为ASML主要供应商,间接协助提升台湾半导体业整体技术能力。
阅报秘书 EUV
极紫外光微影制程 (EUV)技术是次世代微影技术之一,被半导体业视为跨入10纳米制程以下,取代传统浸润式曝光(Immersion)、延续摩尔定律的一项重要微影技术。
浸润式曝光机台是在光源与晶圆中间加入水的原理,使波长缩短到132纳米的微影技术;EUV曝光设备是利用波长极短的紫外线,在矽基板上刻出更微细的电路图案。
EUV售价昂贵,一台售价高达7,000万欧元(约新台币25.6亿元),主力设备开发厂艾司摩尔(ASML)为降低开发风险,过去曾要求英特尔、三星及台积电以入股,共同参与这项先进微影技术开发,如今相关量产设备已陆续出货,和浸润式曝光机搭配使用,开始导入在10纳米以下先进制程。
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