三星韩国新晶圆代工产线已开建!采用5纳米EUV制程
5月21日,三星宣布计划提高其在韩国平泽市新生产线的晶圆代工生产能力。
新闻稿指出,该生产线已于本月开始建设,将专注于基于EUV的5纳米及以下工艺技术,预计将于2021年下半年全面投入生产。三星的目标是在包括5G,高性能计算(HPC)和人工智能(AI)在内的众多当前和下一代应用中扩展最新工艺技术的使用。
三星电子总裁兼代工业务负责人ES Jung博士表示,新的生产线将扩大三星在5纳米以下制程的制造能力,并能够迅速满足客户对基于EUV解决方案的日益增长的需求。此外,新的生产线还将使三星能够继续开拓新的领域,同时推动三星代工业务的强劲增长。

三星指出,在2019年初首次批量生产基于EUV的7nm工艺之后,三星最近在韩国华城增加了一条新的EUV专用V1生产线。而随着新的平泽工厂于2021年全面投入运营,三星基于EUV的晶圆代工产能预计将大幅增加。
根据规划,三星将于今年下半年开始在华城工厂开始批量生产5nm EUV工艺。加上平泽工厂,三星将在韩国和美国总共拥有7条晶圆代工生产线,其中包括6条12英寸生产线和1条8英寸生产线。
- •Melexis宣布中国战略新动向,强调供应链的本地化2025-04-16
- •从楼层定位到水下探测:兆易创新MEMS气压传感器的无限可能2025-04-16
- •Vishay 新款Gen 4.5 650 V E系列功率MOSFET具有卓越的性能2025-04-16
- •Arm 携手 AWS 助力实现 AI 定义汽车2025-04-15
- •大联大诠鼎集团推出基于Qualcomm产品的TWS耳机方案2025-04-15
- •兆易创新推出GD5F1GM9系列高速QSPI NAND Flash,突破性读取速度,助力应用快速启动2025-04-15
- •Cadence 率先推出 eUSB2V2 IP 解决方案,助力打造高速连接新范式2025-04-15
- •兆易创新携全系产品及解决方案亮相2025上海慕展 持续突破,激发行业新动能2025-04-15
- •Vishay新添增强短瞬态脉冲防护性能的经AEC-Q200认证的厚膜功率电阻2025-04-15
- •Melexis:把握亚洲机遇,迈向稳健发展2025-04-14