晶瑞股份ArF浸没式光刻机搬入，可用于研发28纳米光刻胶

晶瑞股份ArF浸没式光刻机搬入，可用于研发28纳米光刻胶

1月20日消息，晶瑞股份ArF浸没式光刻机顺利搬入实验室。公司核心管理层、光刻胶核心团队、业务伙伴代表及媒体代表参加了搬入庆祝仪式。

为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目，晶瑞股份于2020年10月顺利购得ASML XT 1900 Gi型浸入式光刻机一台，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。该设备于2020年11月19日从原厂断电停机，于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。

晶瑞团队对内目标一致、上下同欲，对外多方协商、积极运作，历时短短2个多月完成了光刻机的顺利搬入，充分体现了晶瑞团队的凝聚力和高效执行力。

目前公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次光刻机的顺利入驻可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响，有助于公司将光刻胶产品序列实现到 ArF 光刻胶的跨越，并最终实现应用于 12 英寸芯片制造的战略布局。有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，对于提高公司可持续发展能力具有重大意义。