FinFET工艺之后 晶体管技术何去何从？

FinFET工艺之后 晶体管技术何去何从？

　　其它的选择

　　环栅结构不是唯一的选择。我们的工作还表明，量子阱的FinFET也有相当的静电的优势。IMEC的逻辑程序经理AaronThean说。实际上，量子阱是一种绝缘的概念，量子阱可被用来防止泄漏。

　　最近，IMEC，格罗方德和三星演示了一种量子阱的FinFET。它们采用鳍的替换工艺，引变材料Ge基沟道PFET。你可以作一个量子阱器件用III-V族，也可以不用锗，甚至不用硅及硅锗。

　　量子阱器件的另一种形式是采用FDSOI工艺，其中硅作为一个阱及氧化物作为阻挡层。IBM的顾问AliKhakifirooz说，我的观点是在7nm时仍然可在SOI上用内置形变方式形成一个Si和SiGeFinFET。

　　IBM也正在进行的另一种技术，称为“积极缩小的应变硅直接在绝缘体上(SSDOI)的FinFET。在这项技术中，硅片有一个键合氧化物的应变硅层。FDSOI技术据猜测可能比体硅更容易加工制造，但是衬底是更昂贵和基础设施条件还不够成熟。

　　事实上，每一种下一代晶体管的候选者都需有不同的平衡，作出选择是困难与复杂的。IBM的AliKhakifirooz认为我个人对III-V族作为MOSFET沟道中硅的替代材料表示极大关注。相比FinFET环栅的四周有更好的静电场。环栅极可以扩展到更短的LG沟道长度，但也有一些挑战。例如，如果环栅极是用本体硅衬底，它需要一些技巧用来隔离栅与基板，而没有电容的惩罚。

　　还有其他的，也许更重要的，但是要仔细权衡。事实上，许多人都在作环栅工艺。无论我们看到它在7nm或5nm生产是另外的事。你或许需要，或需并不要环栅极。我们需要对于这个问题的回答首先来自电路设计人员，然后才是技术专家。