工艺”的相关资讯
共12条
  • 英特尔再强调7nm工艺存缺陷,可能交由台积电或三星代工

    英特尔(INTC.US)CEOSwan日前在接受采访时表态,英特尔工程师在7nm工艺上发现了一些缺陷,目前正在了解这些缺陷,并有计划解决7nm工艺问题。据了解,7nm工艺对英特尔来说非常重要,这不仅是10nm之后一个重要的高性能节点,也是首次使

    分享到:
    2020-09-08 10:19
  • 7nm工艺延期推出股价暴跌 英特尔解雇总工程师

    7月28日消息,据国外媒体报道,芯片制造商英特尔公司宣布解雇总工程师默蒂·伦杜钦塔拉(MurthyRenduchintala),原因是公司未能跟上最新的制造进展。据悉伦杜钦塔拉将于8月3日离职,其领导的部分将被拆分,并由公司其它高管负责。英特尔

    分享到:
    2020-07-28 09:55
  • 中芯国际Q1净利大涨423% 14nm工艺贡献1.3%营收

    按照以往的情况,Q1季度本应该是电子行业的淡季,尤其是遇冷的半导体行业,不过国内最大的晶圆代工厂中芯国际逆袭了。Q1季度净利润6416.4万美元,大涨423%,14nm工艺贡献了1.3%的营收。中芯国际今晚发布了Q1季度财报,当季营收9.05亿

    分享到:
    2020-05-14 09:39
  • GlobalFoundries放弃7nm等先进工艺:追逐硅光子

    随着半导体制造工艺越来越先进、越来越复杂,玩家也是越来越少,基本都快成了台积电的独角戏,三星电子、Intel都有些勉为其难。早在2018年8月份,AMD制造业务独立出来的GlobalFoundries就宣布放弃7nm工艺项目,未来的5nm、3n

    分享到:
    2020-05-12 11:27
  • 台积电重申5nm工艺今年营收预期

    据国外媒体报道,按计划,在7nm工艺量产近两年之后,芯片代工商台积电今年将大规模量产5nm芯片,台积电方面日前也透露,他们的5nm工艺已经量产,良品率也非常可观。对于5nm工艺,台积电CEO、副董事长魏哲家在1月16日的财报分析师电话会议上曾表

    分享到:
    2020-04-21 09:42
  • 台积电3nm工艺计划每平方毫米集成2.5亿晶体管

    4月20日消息,据国外媒体报道,在芯片工艺方面走在行业前列的代工商台积电,已顺利大规模量产5nm工艺,良品率也比较可观。在5nm工艺量产之后,台积电工艺研发的重点就将是3nm和更先进的工艺。对于3nm工艺,外媒的报道显示,台积电是计划每平方毫米

    分享到:
    2020-04-20 11:46
  • MacuSpec THF 100镀铜填通孔工艺 优异的单步骤填通孔工艺

    MacuSpecTHF100第一个能单步骤填通孔工艺,可消除空洞,减少周期时间并提供连接的金属铜通孔,而无需进行后续减铜步骤。无论您的设计目标是包括改善的散热性能,更好的结构完整性还是节省空间的改进,MacuSpecTHF100都是通孔填充的解

    分享到:
    2020-04-16 11:07
  • 关注算法安全新兴领域,清华团队RealAI推出业界首个AI模型“杀毒软件”

    近日,清华大学AI研究院孵化企业RealAI(瑞莱智慧)正式推出首个针对AI在极端和对抗环境下的算法安全性检测与加固的工具平台——RealSafe人工智能安全平台。该平台内置领先的AI对抗攻防算法,提供从安全测评到防御加固整体解决方案,目前可用

    分享到:
    2020-04-07 09:47
  • 东芝推出采用其最新一代工艺的80V N沟道功率MOSFET

    东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)今日宣布,其“U-MOSX-H系列”产品线新增采用其最新一代工艺制造而成的80VN沟道功率MOSFET---TPH2R408QM和TPN19008QM。新款MOSFET适用于数据中心和通信基站所用的工业

    分享到:
    2020-03-31 09:33
  • Manz亚智科技推进国内首个大板级扇出型封装示范工艺线建设

    全球领先的高科技设备制造商Manz亚智科技,交付大板级扇出型封装解决方案于广东佛智芯微电子技术研究有限公司(简称佛智芯),推进国内首个大板级扇出型封装示范线建设,是佛智芯成立工艺开发中心至关重要的一个环节,同时也为板级扇出型封装装备奠定了验证基

    分享到:
    2020-03-16 11:21
  • 从工艺和设计层切入 渐破5nm“极限挑战”

    归根究底,良率和成本的问题最终还是因5nm技术处于初探阶段,技术不成熟所致的不可控因素太多。其中,工艺和设计近乎各占半壁江山。首先,以芯片制造流程中最核心的刻蚀和光刻工艺来看,比如刻蚀工艺从14nm到5nm器件,刻蚀步骤近乎增加了三倍左右,传统

    分享到:
    2020-03-13 10:46
  • 2029年推出1.4nm工艺?英特尔10年工艺路线图曝光

    12月11日,据AnandTech、WikiChip报道,在近期的IEEE国际电子设备会议(IEDM)上,ASML公布了一张合作伙伴英特尔的工艺路线图,路线图显示英特尔将在接下来的10年内每2年推出一种新制程,2029年将推出的是1.4nm节点

    分享到:
    2019-12-12 15:42

资讯排行榜

  • 每日排行
  • 每周排行
  • 每月排行
;

华强资讯微信号

关注方法:
· 使用微信扫一扫二维码
· 搜索微信号:华强微电子